半導(dǎo)體工業(yè)的電子芯片是我國(guó)的大宗進(jìn)口商品,我國(guó)的芯片行業(yè)發(fā)展比較緩慢,近期國(guó)家的政策也傾向于大力發(fā)展自主性的半導(dǎo)體芯片。在半導(dǎo)體行業(yè),超純水不同于其他行業(yè)的超純水的要求,有極其嚴(yán)苛的水質(zhì)要求。
超純水(Ultrapure water)又稱UP水,是指電阻率達(dá)到18 MΩ*cm(25℃)的水。這種水中除了水分子外,幾乎沒(méi)有什么雜質(zhì),更沒(méi)有細(xì)菌、病毒、含氯二噁英等有機(jī)物,當(dāng)然也沒(méi)有人體所需的礦物質(zhì)微量元素,也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水??梢杂糜诔儾牧希ò雽?dǎo)體原件材料、納米精細(xì)陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當(dāng)?shù)某R界精細(xì)技術(shù)的制備過(guò)程
超純水處理:既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)。
超純水處理,是一般工藝很難達(dá)到的程度,采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級(jí)處理四大步驟,多級(jí)過(guò)濾、高性能離子交換單元、超濾過(guò)濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,電阻率方可達(dá)18.25MΩ*cm(25℃)。
在半導(dǎo)體產(chǎn)品制造過(guò)程中,很多電子元器件生產(chǎn)過(guò)程中需要大量超純水,且對(duì)水質(zhì)要求特別嚴(yán)苛。由于生產(chǎn)設(shè)備的精密性和生產(chǎn)工藝的復(fù)雜性,對(duì)其配套設(shè)施提出了很高的要求,尤其對(duì)作為半導(dǎo)體行業(yè)血脈的超純水系統(tǒng)更是高之又高。半導(dǎo)體行業(yè)超純水制造工藝可以概述為4個(gè)部分,分別為預(yù)處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分;在有些半導(dǎo)體廠中, 也有用“陰床+陽(yáng)床”代替電去離子裝置的,主要根據(jù)原水水質(zhì)和產(chǎn)水水質(zhì)對(duì)弱電解質(zhì)的要求而定。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
1.避免傳統(tǒng)離子再生耗費(fèi)的大量酸堿,對(duì)環(huán)境更友好;
2.克服傳統(tǒng)離子設(shè)備再生周期相對(duì)較長(zhǎng);
3.超濾反洗排水、一級(jí)RO濃水排水和CEDI濃水排水及其回收利用措施,利于節(jié)能減排;
4.節(jié)約水資源及半導(dǎo)體制造單位的運(yùn)行成本。
產(chǎn)品應(yīng)用
預(yù)處理部分
1.多介質(zhì)過(guò)濾器+活性炭過(guò)濾器;
2.粗過(guò)濾器+超濾裝置。
反滲透部分
反滲透膜
電去離子部分
EDI模塊和 CEDI模塊。
拋光混床
推薦產(chǎn)品:
精密濾芯過(guò)濾器 袋式過(guò)濾器 微孔過(guò)濾機(jī) 機(jī)械過(guò)濾器
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