近幾年隨著多晶硅生產(chǎn)工藝的不斷改進(jìn)，生產(chǎn)成本降低和環(huán)境保護(hù)已成為關(guān)注目標(biāo)，因此含顆粒粉塵氣體的凈化在改良西門(mén)子法中日益重要。不論是改良西門(mén)子法還是硅烷法生產(chǎn)工藝中都需要過(guò)濾設(shè)備，用于收集硅粉、氯硅烷循環(huán)洗滌、循環(huán)水再利用等工序。結(jié)合眾多項(xiàng)目生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，YQSTEC提出了自己的過(guò)濾工藝解決方案。
多晶硅生產(chǎn)中所遇見(jiàn)的污染物及雜質(zhì)顆粒：
1.未完全反應(yīng)的硅粉顆粒；
2.循環(huán)液帶入的管道中的雜質(zhì)；
3.進(jìn)料帶入的固體粉塵與雜質(zhì)；
4.合成反應(yīng)生成的固體雜質(zhì)；
這些顆粒雜質(zhì)污染物是影響生產(chǎn)穩(wěn)定、換熱效率的主要原因。YQSTEC高效的過(guò)濾與分離設(shè)備不僅保護(hù)了生產(chǎn)設(shè)備的工藝安全，同時(shí)也提升了產(chǎn)品質(zhì)量與產(chǎn)量。
尾氣過(guò)濾應(yīng)用在多晶硅生產(chǎn)的各個(gè)工藝段,對(duì)多晶硅的生產(chǎn)起到重要作用,尤其目前行業(yè)低位運(yùn)行期間,對(duì)多晶硅產(chǎn)品降低成本至關(guān)重要：
a.廢氣廢液工位的煙氣過(guò)濾；
b.還原爐尾氣分離；
c.氫化爐尾氣分離；
d.硅粉過(guò)濾等。
1、還原尾氣分離
在SiCl4氫化氣和SiHCl3還原氣通過(guò)干法分離后，H2和HCl得以回收利用，在H2回用前需過(guò)濾氣體中含有的未反應(yīng)硅粉和生成的石墨粉，來(lái)保證氫氣純凈，使氫化反應(yīng)和還原反應(yīng)更穩(wěn)定、高效。
問(wèn)題： | 要求： | 解決： |
氫氣為高危氣體 | 過(guò)濾器密封性能良好 | 采用自動(dòng)反吹系統(tǒng)，無(wú)須打開(kāi)濾器，減少內(nèi)件更換頻次，避免泄露可能 |
石墨粉/硅粉顆粒粒徑微小，硬度高。 | 過(guò)濾精度要求高，防止內(nèi)件穿透。 | 采用獨(dú)特的燒結(jié)金屬氈內(nèi)件，過(guò)濾孔徑穩(wěn)定，保證過(guò)濾性能,過(guò)濾精度可達(dá)0.1um-0.5um |
尾氣溫度高 | 抗溫要求高。避免降溫處理帶來(lái)的一系列問(wèn)題。 | YQSTEC采用高溫直接處理工藝，避免降溫處理帶來(lái)管道腐蝕，能耗浪費(fèi)嚴(yán)重的問(wèn)題。 |
2、廢氣、廢液焚燒處理
在多晶硅生產(chǎn)工藝中，廢氣廢液處理一直是困擾企業(yè)的難題之一。傳統(tǒng)的噴淋處理工藝，處理成本高，浪費(fèi)嚴(yán)重，環(huán)保問(wèn)題嚴(yán)峻。
解決方案：
YQSTEC采用干法分離技術(shù)，將廢氣廢液在爐內(nèi)燃燒，生成SiO2粉末，通過(guò)分離收集SiO2粉末產(chǎn)生極大的經(jīng)濟(jì)效益。同時(shí)解決環(huán)保達(dá)標(biāo)排放問(wèn)題。
工藝優(yōu)勢(shì)：
1、廢氣廢液集中處理，工藝流程短，操作簡(jiǎn)單；
2、回收的SiO2粉末產(chǎn)生極大的經(jīng)濟(jì)效益；
3、氣體經(jīng)燃燒后，符合環(huán)保要求，可直接放空處理，經(jīng)濟(jì)環(huán)保。
相關(guān)產(chǎn)品：
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相關(guān)資料：
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技術(shù)支持：
設(shè)備咨詢前請(qǐng)完善我司工況調(diào)查表，以便我司工程師提供更完善的過(guò)濾方案！
常見(jiàn)液體粘度資料及數(shù)據(jù)參考表；
常用過(guò)濾設(shè)備-流體化學(xué)適應(yīng)性表；
規(guī)范過(guò)濾機(jī)濾布的更換、使用和維護(hù)；
過(guò)濾的基礎(chǔ)理論與技術(shù)進(jìn)展；
精細(xì)過(guò)濾及硅藻土助濾劑的應(yīng)用；
濾布常識(shí)數(shù)據(jù)及應(yīng)用范圍；
深層過(guò)濾理論與技術(shù)的研究進(jìn)展；
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