半導(dǎo)體( semiconductor),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體(conductor)與絕緣體(insulator)之間的材料。半導(dǎo)體在收音機(jī)、電視機(jī)以及測(cè)溫上有著廣泛的應(yīng)用。如二極管就是采用半導(dǎo)體制作的器件。半導(dǎo)體是指一種導(dǎo)電性可受控制,范圍可從絕緣體至導(dǎo)體之間的材料。無(wú)論從科技或是經(jīng)濟(jì)發(fā)展的角度來(lái)看,半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。今日大部分的電子產(chǎn)品,如計(jì)算機(jī)、移動(dòng)電話或是數(shù)字錄音機(jī)當(dāng)中的核心單元都和半導(dǎo)體有著極為密切的關(guān)連。常見(jiàn)的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等,而硅更是各種半導(dǎo)體材料中,在商業(yè)應(yīng)用上最具有影響力的一種。
半導(dǎo)體(semiconductor),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體(conductor)與絕緣體(insulator)之間的材料。半導(dǎo)體在收音機(jī)、電視機(jī)以及測(cè)溫上有著廣泛的應(yīng)用。
物質(zhì)存在的形式多種多樣,固體、液體、氣體、等離子體等。通常把導(dǎo)電性差的材料,如煤、人工晶體、琥珀、陶瓷等稱為絕緣體。而把導(dǎo)電性比較好的金屬如金、銀、銅、鐵、錫、鋁等稱為導(dǎo)體。可以簡(jiǎn)單的把介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料稱為半導(dǎo)體。與導(dǎo)體和絕緣體相比,半導(dǎo)體材料的發(fā)現(xiàn)是最晚的,直到20世紀(jì)30年代,當(dāng)材料的提純技術(shù)改進(jìn)以后,半導(dǎo)體的存在才真正被學(xué)術(shù)界認(rèn)可。
本征半導(dǎo)體:不含雜質(zhì)且無(wú)晶格缺陷的半導(dǎo)體稱為本征半導(dǎo)體。在極低溫度下,半導(dǎo)體的價(jià)帶是滿帶(見(jiàn)能帶理論),受到熱激發(fā)后,價(jià)帶中的部分電子會(huì)越過(guò)禁帶進(jìn)入能量較高的空帶,空帶中存在電子后成為導(dǎo)帶,價(jià)帶中缺少一個(gè)電子后形成一個(gè)帶正電的空位,稱為空穴。空穴導(dǎo)電并不是實(shí)際運(yùn)動(dòng),而是一種等效。電子導(dǎo)電時(shí)等電量的空穴會(huì)沿其反方向運(yùn)動(dòng) 。它們?cè)谕怆妶?chǎng)作用下產(chǎn)生定向運(yùn)動(dòng)而形成宏觀電流,分別稱為電子導(dǎo)電和空穴導(dǎo)電。這種由于電子-空穴對(duì)的產(chǎn)生而形成的混合型導(dǎo)電稱為本征導(dǎo)電。導(dǎo)帶中的電子會(huì)落入空穴,電子-空穴對(duì)消失,稱為復(fù)合。復(fù)合時(shí)釋放出的能量變成電磁輻射(發(fā)光)或晶格的熱振動(dòng)能量(發(fā)熱)。在一定溫度下,電子- 空穴對(duì)的產(chǎn)生和復(fù)合同時(shí)存在并達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡,此時(shí)半導(dǎo)體具有一定的載流子密度,從而具有一定的電阻率。溫度升高時(shí),將產(chǎn)生更多的電子- 空穴對(duì),載流子密度增加,電阻率減小。無(wú)晶格缺陷的純凈半導(dǎo)體的電阻率較大,實(shí)際應(yīng)用不多。
半導(dǎo)體其實(shí)是一種開(kāi)關(guān)電路,原材料由稀有金屬組合而成,在一定條件下,就能通電。所謂的稀有金屬原材料主要是硅跟鍺這兩種,分為 NPN 和 PNP 兩種組合方式。
集成電路就是把很多的半導(dǎo)體組合在一個(gè)電路板上使用,所謂集成在一起,就是集成電路了。
半導(dǎo)體集成電路(英文名:semiconductor integrated circuit),是指在一個(gè)半導(dǎo)體襯底上至少有一個(gè)電路塊的半導(dǎo)體集成電路裝置。
半導(dǎo)體集成電路是將晶體管,二極管等等有源元件和電阻器,電容器等無(wú)源元件,按照一定的電路互聯(lián),“集成”在一塊半導(dǎo)體單晶片上,從而完成特定的電路或者系統(tǒng)功能。
芯片就是把集成電路,通過(guò)技術(shù)把它縮小到指甲大的尺寸,或者更小,然后生產(chǎn)再封裝起來(lái)使用。
半導(dǎo)體集成電路是指在半導(dǎo)體基板上,利用氧化、蝕刻、擴(kuò)散等方法,將眾多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件作在一微小面積上,以完成某一特定邏輯功能(例如:AND、OR、NAND等), 進(jìn)而達(dá)成預(yù)先設(shè)定好的電路功能。半導(dǎo)體的生產(chǎn)工藝要求高,涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種復(fù)雜工藝,生產(chǎn)半導(dǎo)體的過(guò)程會(huì)產(chǎn)生大量的廢水, 半導(dǎo)體廢水污染物種類多,成分復(fù)雜,通常包括多種重金屬?gòu)U水,有機(jī)廢水以及硅和氟廢水;同時(shí)半導(dǎo)體PCW系統(tǒng)的制程冷卻水須過(guò)濾處理以回用(見(jiàn)水處理應(yīng)用)。
半導(dǎo)體生產(chǎn)廢水排放量大,廢水污染物種類多,成份復(fù)雜,通常都包括多種重金屬?gòu)U水和有機(jī)廢水,處理難度較大。為了保證半導(dǎo)體生產(chǎn)廢水的處理效果,須按照污染物的不同將廢水分類收集,針對(duì)每一類廢水的主要污染物的特點(diǎn),分別進(jìn)行處理,可達(dá)到理想的處理效果。同時(shí),采用先進(jìn)的廢水回用處理技術(shù),保證廢水回用處理系統(tǒng)的穩(wěn)定性和經(jīng)濟(jì)性 。
清洗工藝及廢水來(lái)源
工藝 | 清潔源 | 容器 | 清潔效果 |
剝離光刻膠 | 氧等離子體 | 平板反應(yīng)器 | 刻蝕膠 |
去聚合物 | 硫酸:水=6:1 | 溶液槽 | 除去有機(jī)物 |
去自然氧化層 | 氟化氫:水<1:50 | 溶液槽 | 產(chǎn)生無(wú)氧表面 |
旋轉(zhuǎn)甩干 | 氮?dú)?/span> | 甩干機(jī) | 無(wú)任殘留物 |
RCA1#(堿性) | 氫氧化銨:過(guò)氧化氫:水=1:1:1.5 | 溶液槽 | 除去表面顆粒 |
RCA2#(堿性) | 氯化氫:過(guò)氧化氫:水=1:1:5 | 溶液槽 | 除去重金屬粒子 |
DI清洗 | 去離子水 | 溶液槽 | 除去清洗溶劑 |
問(wèn)題描述
1.產(chǎn)生廢水量大;
2.廢水成份復(fù)雜,含有各種過(guò)渡性質(zhì)的金屬如硅、鍺等,同時(shí)含有較高含量的氟;
3.廢水中含有難以處理的較高濃度的 COD。
相關(guān)設(shè)備:
精密過(guò)濾器 微孔過(guò)濾機(jī) 袋式過(guò)濾器 疊片過(guò)濾器 壓濾機(jī) 機(jī)械過(guò)濾器 自清洗過(guò)濾器
相關(guān)資料:
半導(dǎo)體廢水中揮發(fā)性有機(jī)物的去除方法;
半導(dǎo)體工廠廢水氨氮處理的運(yùn)行控制和工藝優(yōu)化;
半導(dǎo)體含硅廢水形成動(dòng)態(tài)膜的影響因素研究;
半導(dǎo)體生產(chǎn)廢水處理及回用技術(shù)介紹;
鉍系半導(dǎo)體材料制備及水污染治理研究進(jìn)展;
300 mm半導(dǎo)體廠含Cu廢水處理工程應(yīng)用;
三星半導(dǎo)體公司閃存芯片生產(chǎn)廢水處理工程;
技術(shù)支持:
設(shè)備咨詢前請(qǐng)完善我司工況調(diào)查表,以便我司工程師提供更完善的過(guò)濾方案!
常見(jiàn)液體粘度資料及數(shù)據(jù)參考表;
常用過(guò)濾設(shè)備-流體化學(xué)適應(yīng)性表;
規(guī)范過(guò)濾機(jī)濾布的更換、使用和維護(hù);
過(guò)濾的基礎(chǔ)理論與技術(shù)進(jìn)展;
精細(xì)過(guò)濾及硅藻土助濾劑的應(yīng)用;
濾布常識(shí)數(shù)據(jù)及應(yīng)用范圍;
深層過(guò)濾理論與技術(shù)的研究進(jìn)展;
XTC-XSX110-3 移動(dòng)小車多級(jí)串聯(lián)過(guò)濾器
XTC-SL-DSP40-XSX520 移動(dòng)小推車多級(jí)串聯(lián)過(guò)濾器
XTC-XSX920-SL25 移動(dòng)小車雙聯(lián)可切換芯式過(guò)濾系統(tǒng)
XTC-DSD10-XSX105 不銹鋼小推車過(guò)濾器
DSXZFB不銹鋼非標(biāo)移動(dòng)袋式過(guò)濾器
DSP40-SLT100 雙聯(lián)可切換袋式過(guò)濾器
DSCL 蚌開(kāi)多袋式過(guò)濾器
XTC-DSP20-XSX520 不銹鋼移動(dòng)小車串聯(lián)過(guò)濾器